以下のいずれかの半導体プロセスで採用される液体ろ過フィルターの世界市場を対象 1.デバイス工場(半導体製造装置に搭載されるフィルターを含む) リソグラフィ、平坦化(CMP)、洗浄・乾燥(薬液や超純水を使用する工程)、純水・超純水製造装置(RO膜などの水処理膜は対象外)など 2.半導体材料工場 フォトレジスト、CMPスラリー、その他薬液・乾燥液、フォトマスク、ウエハなど 3.半導体材料の原料を製造する工場 溶剤、ポリマー、光酸発生剤、砥粒など
微細化が進む半導体プロセスを支える液体ろ過フィルター市場の現状と将来展望
デジタル化の進展によって、半導体市場は長期的にみて成長を続けており、フォトレジストやCMPスラリーといった半導体材料の需要も旺盛となっています。また、先端ロジックの微細化や3D-NANDの高層化など、先端半導体の技術開発も盛んであり、先端半導体向け材料市場にも注目が集まっています。ところで、半導体材料の製造においては、様々な不純物の分離・除去が求められ、分離・精製プロセスの一環としてフィルターが用いられています。しかし、それぞれの半導体材料に求められる分離・除去性能は異なっているほか、半導体工場でもフィルターが採用されるなど市場が見えづらくなっています。そこで、本調査では、半導体プロセスに採用される液体ろ過フィルターを対象とし、市場動向やフィルターに採用される素材・形状、参入する海外の有力フィルターメーカーの動向などから市場の全体像の把握を行います。
- 商品コード:112502917
| 発刊日 | 2025年06月25日 |
|---|---|
| 価格 | 330,000円(税込) |
| レポート種別 | デジタルプレス |
| 体裁 | CD-ROM版/A4/42P |
| 調査期間 | 2025年5月~2025年6月 |
| 発刊元 | 富士経済 |
調査対象
調査項目
【III.海外メーカー事例編】
1.企業プロフィール
2.製品特性
3.国/エリア別にみた半導体プロセス向け液体ろ過フィルターの販売動向
(金額ベース:2024年実績、2025年見込)
4.技術開発動向
5.アライアンス動向
6.今後の方向性目次
I.半導体プロセス編 1.半導体プロセスの概要/ロードマップ 2 2.半導体プロセスと液体ろ過フィルターの採用傾向 3 3.将来的な半導体プロセスの変化に伴い要求される液体ろ過フィルターの機能 7 4.半導体プロセス向け液体ろ過フィルターの技術開発動向 8 5.国内外における半導体材料工場の設備投資動向 8 II.フィルター市場動向編 1.市場定義 12 2.世界市場規模推移(金額ベース:2024年実績~2030年予測) 13 3.エリア別市場規模推移(金額ベース: 2024年実績、2025年見込) 14 4.形状・素材動向(金額ベース:2024年実績、2025年見込) 16 5.用途別動向(金額ベース:2024年実績、2025年見込) 18 6.メーカーシェア(金額ベース:2024年実績、2025年見込) 20 III.海外メーカー事例編 1.Entegris 22 2.Cobetter 35
レポートサマリー
提供利用形態(料金)
|
商品形態 |
ネットワーク |
価格(税込み)下段:本体価格 |
選択 |
|---|---|---|---|
|
CD-ROM版 レポート本文(PDFファイル)をCD-ROMで提供します。 |
|
330,000円 300,000円 |
|
|
ネットワークパッケージ版(CD-ROM) レポート本文(PDFファイル)をCD-ROMで提供します。 |
|
495,000円 450,000円 |
|
オプション選択
|
電子書籍 単体購入はできません。書籍版、PDF版、PDF+データ版、およびこれらセットのオプションになります。追加購入をご希望の場合は別途お問い合わせください。 |
クラウド利用 |
33,000円 30,000円 |
|